据麦姆斯咨询报道，丹麦光学解决方案提供商NIL Technology（NILT）发布了适用于元宇宙产品（例如VR/AR设备）的3D传感和机器视觉应用的高精度纳米结构平面光学元件。
NILT表示，其平面光学元件可使3D传感与成像系统所需的组件减少并提高成像质量，从而使元宇宙产品更小、更轻、更高效。
NILT首席执行官兼创始人Theodor Nielsen表示：“新型平面光学技术平台高达94%的转化效率，非常适合3D传感与成像，并具有传感和机器视觉应用所需的精度和能效，以提供引人入胜的虚拟世界体验。我们的平面光学元件使XR制造商能够以商业和消费市场所需的规模生产更轻且性能更好的设备。”
NILT认为，十多年来，智能手机和其它电子产品中摄像头的镜头并没有出现革命性的变化，依然停留在陈旧的理念，“镜头由多片体积较大的折射镜头或镜片堆叠实现”，为此NILT的使命是通过显著减少镜头系统的尺寸和复杂性，为智能手机摄像头带来革命性的变化。
NILT平面光学元件比当今使用的“经典”折射镜头更平、更薄、更轻，展示了前所未有的光学元件简单性，NILT平面光学技术平台可为VR/AR设备提供更好的成像质量，并为大规模生产应用做好准备。
NILT在高精度纳米结构领域拥有超过15年的经验积累，并基于这一经验实现超光学元件（MOE）的快速原型化和批量生产。去年2月，NILT完成由欧洲创新理事会（EIC）基金领投的2600万欧元融资，旨在增强NILT的平面光学元件量产能力，同时推进新超透镜技术，缩小元件尺寸，降低系统复杂度。
